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International Journal of Applied Electromagnetics and Mechanics在2026 年度 JCR 分区表中的最新影响因子为0.7，当前JCR总分区为Q4，整体排名约为第16803位，适合用于快速判断该刊当前学术影响力与分区位置。

International Journal of Applied Electromagnetics and Mechanics的五年影响因子为0.7，可与最新IF结合观察其中长期稳定性。

International Journal of Applied Electromagnetics and Mechanics历年IF从2020年的0.706变化到2025年的0.7，整体呈回落趋势，区间峰值出现在2023年，约为1.1。

International Journal of Applied Electromagnetics and Mechanics在JCR分类层面的表现如下：MECHANICS（Q4，排名 155/172，百分位 10.2）；ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC（Q4，排名 347/369，百分位 6.1）；PHYSICS, APPLIED（Q4，排名 183/191，百分位 4.5）。

中科院分区方面，工程技术大类为4区 [978/1437]，非TOP期刊；小类分区包括ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气为4区 [289/352]；MECHANICS 力学为4区 [141/171]；PHYSICS, APPLIED 物理：应用为4区 [148/178]。

新锐分区方面，工程技术 / Engineering大类为4 区，非TOP期刊；小类分区包括工程：电子与电气 / ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC为4 区；力学 / MECHANICS为4 区；物理：应用 / PHYSICS, APPLIED为4 区。

期刊基础识别信息方面，常用缩写为INT J APPL ELECTROM，出版商为SAGE PUBLICATIONS INC，ISSN 信息为 1383-5416 / 1875-8800。

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